据报道,专利的名称为“反射镜、光刻装置及控制方法”,主要是基于目前光刻机技术进行改造升级,让光刻机的良品率变得更高,生产效率自然也就上去了。不过现在问题的根源并非提升光刻机的良品率,而是我们如何获得或是生产出一台真正属于自己的euv光刻机。华为此次入局光刻机市场意味着国内光刻机市场已经迎来了一个更好的研发布局环境,国产光刻机市场也正迎来一个更好的发展时期。
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